Fugu-MT 論文翻訳(概要): Direct-write projection lithography of quantum dot micropillar single photon sources

論文の概要: Direct-write projection lithography of quantum dot micropillar single photon sources

arxiv url: http://arxiv.org/abs/2304.00141v1
Date: Fri, 31 Mar 2023 21:34:53 GMT
ステータス: 処理完了
システム内更新日: 2023-04-04 19:41:13.109909
Title: Direct-write projection lithography of quantum dot micropillar single photon sources
Title（参考訳）: 量子ドットマイクロピラー単一光子源の直接書き込み投影リソグラフィー
Authors: Petros Androvitsaneas, Rachel N. Clark, Matthew Jordan, Tomas Peach, Stuart Thomas, Saleem Shabbir, Angela D. Sobiesierski, Aristotelis Trapalis, Ian A. Farrer, Wolfgang W. Langbein, Anthony J. Bennett
Abstract要約: 我々は直接書き込みリソグラフィーを用いて量子ドットマイクロピラーキャビティを大量生産するプロセスを開発した。この技術により, 縦横壁を有する高アスペクト比柱の高容積パターン化が可能となり, 直径2.0$mu$m未満の高品質係数を維持できる。
参考スコア（独自算出の注目度）: 0.2621533844622817
License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
Abstract: We have developed a process to mass-produce quantum dot micropillar cavities using direct-write lithography. This technique allows us to achieve high volume patterning of high aspect ratio pillars with vertical, smooth sidewalls maintaining a high quality factor for diameters below 2.0 $\mu$m. Encapsulating the cavities in a thin layer of oxide (Ta$_2$O$_5$) prevents oxidation in the atmosphere, preserving the optical properties of the cavity over months of ambient exposure. We confirm that single dots in the cavities can be deterministically excited to create high purity indistinguishable single photons with interference visibility $(96.2\pm0.7)\%$.
Abstract（参考訳）: 我々は直接書き込みリソグラフィを用いた量子ドットマイクロピラーキャビティの量産法を開発した。この技術により, 縦横壁を有する高アスペクト比柱の高容積パターン化が可能となり, 直径2.0$\mu$m未満の高品質係数を維持できる。酸化物の薄い層(Ta$_2$O$_5$)にキャビティをカプセル化すると、大気中の酸化が防止され、環境暴露から数ヶ月にわたってキャビティの光学的特性が保たれる。キャビティ内の1つのドットは決定論的に励起され、干渉視認性が(96.2\pm0.7)\%$の高純度単光子を生成する。

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