論文の概要: Origin of electrical noise near charge neutrality in dual gated graphene
device
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2309.12011v1
- Date: Thu, 21 Sep 2023 12:28:32 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-09-22 15:29:36.238568
- Title: Origin of electrical noise near charge neutrality in dual gated graphene
device
- Title(参考訳): 二重ゲートグラフェンデバイスにおける電荷中立近傍の電気ノイズの起源
- Authors: Aaryan Mehra, Roshan Jesus Mathew, and Chandan Kumar
- Abstract要約: 本文は,hBN封入グラフェンデバイスにおける低周波1/fノイズを二重ゲート形状で調査する。
低いnBGのノイズは、トップゲートキャリア密度とは独立である。
ノイズの形状は、装置の電荷不均一領域と密接に関連している。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 1.798594109079455
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: This letter investigates low frequency 1/ f noise in hBN encapsulated
graphene device in a dual gated geometry. The noise study is performed as a
function of top gate carrier density (nT G) at different back gate densities
(nBG). The noise at low nBG is found to be independent of top gate carrier
density. With increasing nBG, noise value increases and a noise peak is
observed near charge inhomogeneity of the device. Further increase in nBG leads
to decrease in noise magnitude. The shape of the noise is found to be closely
related to charge inhomogeneity region of the device. Moreover, the noise and
conductivity data near charge neutrality shows clear evidence of noise
emanating from combination of charge number and mobility fluctuation
- Abstract(参考訳): 本文は,hBN封入グラフェンデバイスにおける低周波1/fノイズを二重ゲート形状で調査する。
ノイズスタディは、異なるバックゲート密度(nBG)におけるトップゲートキャリア密度(nTG)の関数として実行される。
低いnBGのノイズは、トップゲートキャリア密度とは独立である。
nBGの増加に伴い、ノイズ値が増加し、装置の電荷不均一付近でノイズピークが観測される。
さらにnBGの増加は、ノイズの規模を減少させる。
ノイズの形状はデバイスの電荷不均一性領域と密接に関連していることがわかった。
さらに,帯電中性付近の騒音・導電性データは,帯電数と移動度変動の組み合わせから発生する騒音の明確な証拠を示す。
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