論文の概要: Quantum entanglement enabled ellipsometer for phase retardance measurement

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2402.17401v1
• Date: Tue, 27 Feb 2024 10:48:22 GMT
• ステータス: 処理完了
• システム内更新日: 2024-02-28 16:43:12.813598
• Title: Quantum entanglement enabled ellipsometer for phase retardance measurement
• Title（参考訳）: 位相差測定のための量子エンタングルメント有効楕円計
• Authors: Meng-Yu Xie, Su-Jian Niu, Yin-Hai Li, Zheng Ge, Ming-Yuan Gao, Zhao-Qi-Zhi Han, Ren-Hui Chen, Zhi-Yuan Zhou, and Bao-Sen Shi
• Abstract要約: 精度は極端に低い入力強度でナノメートルスケールに達することができ、その安定性は補償器で試験された全ての試料の1%以内である。 我々の研究は、低入射光強度での精度測定の道を切り開いており、感光性材料、能動生物サンプル、その他の遠隔監視シナリオに潜在的に応用できる可能性がある。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 2.9419766179487605
• License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
• Abstract: An ellipsometer is a vital precision tool used for measuring optical parameters with wide applications in many fields, including accurate measurements in film thickness, optical constants, structural profiles, etc. However, the precise measurement of photosensitive materials meets huge obstacles because of the excessive input photons, therefore the requirement of enhancing detection accuracy under low incident light intensity is an essential topic in the precision measurement. In this work, by combining a polarization-entangled photon source with a classical transmission-type ellipsometer, the quantum ellipsometer with the PSA (Polarizer-Sample-Analyzer) and the Senarmount method is constructed firstly to measure the phase retardation of the birefringent materials. The experimental results show that the accuracy can reach to nanometer scale at extremely low input intensity, and the stability are within 1% for all specimens tested with a compensator involved. Our work paves the way for precision measurement at low incident light intensity, with potential applications in measuring photosensitive materials, active-biological samples and other remote monitoring scenarios.
• Abstract（参考訳）: エリプソメータ(英: ellipsometer)は、膜厚、光学定数、構造プロファイルなどの多くの分野において、光学パラメーターを幅広い用途で測定するために用いられる重要な精度測定ツールである。 しかし, 過度な入力光子により, 光感度材料の精密測定は大きな障害に遭うため, 低入射光強度下での検出精度の向上の必要性は, 精度測定に欠かせない課題である。 本研究は, 偏光結合型光子源と古典的な透過型エリプソメータを組み合わせることにより, 量子エリプソメータとPSA (Polarizer-Sample-Analyzer) とセナーマウント法を組み合わせて, 複屈折材料の位相遅延を測定する。 実験の結果, 極端に低い入力強度でナノメートルスケールに到達でき, 補償器を用いて試験した試料の安定性は1%以内であることが判明した。 我々の研究は、低入射光強度での精密測定への道を開き、感光材料、活性生物試料、その他の遠隔監視シナリオの計測に潜在的に応用する。

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