Fugu-MT 論文翻訳(概要): Gradient-based inverse lithography for EUV masks via the waveguide method and a physics-informed neural operator

論文の概要: Gradient-based inverse lithography for EUV masks via the waveguide method and a physics-informed neural operator

arxiv url: http://arxiv.org/abs/2606.25753v1
Date: Wed, 24 Jun 2026 12:22:48 GMT
ステータス: 翻訳完了
システム内更新日: 2026-06-25 17:05:30.324128
Title: Gradient-based inverse lithography for EUV masks via the waveguide method and a physics-informed neural operator
Title（参考訳）: 導波路法と物理インフォームドニューラル演算子によるEUVマスクの勾配型逆リソグラフィ
Abstract要約: 新たなフレームワークは、微分可能な導波路法と最近提案された導波路ニューラル演算子(WGNO)をエンドツーエンドの物理エンジンとして扱う。マスクの現実的な2Dおよび3D吸収体実験により、検討されたILT法により、ウエハ上の所望のフィールドを達成できるマスク構造が得られることが示された。
参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Abstract: Gradient-based inverse lithography technology~(ILT) for extreme ultraviolet~(EUV) masks is presented. A novel framework treats the differentiable waveguide method and the recently proposed waveguide neural operator~(WGNO) as end-to-end physics engines, recovering the permittivity of the absorber of the mask through automatic differentiation of the full forward diffraction model. Numerical experiments on realistic 2D and 3D absorbers of the mask (TaBN, La, U) at $λ{=}11.2$~nm show that the considered ILT methods make it possible to obtain a mask structure that achieves the desired field on the wafer.
Abstract（参考訳）: 極紫外(EUV)マスク用グラディエントベース逆リソグラフィー技術~(ILT)について述べる。近年提案された導波路ニューラルオペレーター~(WGNO)をエンドツーエンドの物理エンジンとして扱い、全前方回折モデルの自動微分によりマスク吸収体の誘電率を回復する。 λ{=}11.2$~nmにおけるマスク(TaBN, La, U)の2次元および3次元吸収体の数値実験により、検討されたILT法は、ウエハ上の所望の場を達成するマスク構造を得ることができることを示した。

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