論文の概要: Optimization and implementation of a surface-electrode ion trap junction

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2201.12579v1
• Date: Sat, 29 Jan 2022 12:47:39 GMT
• ステータス: 処理完了
• システム内更新日: 2023-02-27 09:01:17.681287
• Title: Optimization and implementation of a surface-electrode ion trap junction
• Title（参考訳）: 表面電極型イオントラップ接合の最適化と実装
• Authors: Chi Zhang, Karan K Mehta and Jonathan P Home
• Abstract要約: 本稿では,大規模イオントラップアレイのキー要素である表面電極イオントラップ接合の設計について述べる。 電極の設計には双目的最適化法が用いられ、擬似電位曲率の合計を維持できる。 集積光学アドレッシングは、相互接続された2次元アレイにおけるモジュラーイオン量子コンピューティングに寄与する。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 6.285167805465505
• License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
• Abstract: We describe the design of a surface-electrode ion trap junction, which is a key element for large-scale ion trap arrays. A bi-objective optimization method is used for designing the electrodes, which maintains the total pseudo-potential curvature while minimizing the axial pseudo-potential gradient along the ion transport path. To facilitate the laser beam delivery for parallel operations in multiple trap zones, we implemented integrated optics on each arm of this X-junction trap. The layout of the trap chip for commercial foundry fabrication is presented. This work suggests routes to improving ion trap junction performance in scalable implementations. Together with integrated optical addressing, this contributes to modular trapped-ion quantum computing in interconnected 2-dimensional arrays.
• Abstract（参考訳）: 本稿では,大規模イオントラップアレイのキー要素である表面電極イオントラップ接合の設計について述べる。 イオン輸送路に沿った軸方向擬電位勾配を最小化しつつ、全擬電位曲率を維持する電極の設計に、双目的最適化法を用いる。 複数のトラップ領域における並列動作のためのレーザ光伝送を容易にするために,このX接合トラップの両腕に集積光学を実装した。 商用鋳物製造のためのトラップチップのレイアウトについて述べる。 この研究は、スケーラブルな実装でion trap junctionのパフォーマンスを改善するためのルートを提案する。 集積光学アドレッシングと組み合わせることで、相互接続された2次元アレイにおけるモジュラーイオン量子コンピューティングに寄与する。

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