論文の概要: Broadband single-mode planar waveguides in monolithic 4H-SiC
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2202.10932v1
- Date: Tue, 22 Feb 2022 14:36:21 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-02-24 06:01:51.972371
- Title: Broadband single-mode planar waveguides in monolithic 4H-SiC
- Title(参考訳): モノリシック4H-SiCにおける広帯域単一モード平面導波路
- Authors: Tom Bosma, Joop Hendriks, Misagh Ghezellou, Nguyen T. Son, Jawad
Ul-Hassan, and Caspar H. van der Wal
- Abstract要約: SiCにおける単結晶集積フォトニック素子の電荷キャリア濃度による光学特性の調整
固有層が導波路コアとして機能するモノリシックSiCn-i-nおよびp-i-n接合を作製し,これらの試料の導波路機能を実証した。
これらの導波路型は、光遷移周波数の低ひずみ誘起不均一性を持つ広い波長範囲で色中心に対処することができる。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
- Abstract: Color-center defects in silicon carbide promise opto-electronic quantum
applications in several fields, such as computing, sensing and communication.
In order to scale down and combine these functionalities with the existing
silicon device platforms, it is crucial to consider SiC integrated optics. In
recent years many examples of SiC photonic platforms have been shown, like
photonic crystal cavities, film-on-insulator waveguides and micro-ring
resonators. However, all these examples rely on separating thin films of SiC
from substrate wafers. This introduces significant surface roughness, strain
and defects in the material, which greatly affects the homogeneity of the
optical properties of color centers. Here we present and test a method for
fabricating monolithic single-crystal integrated-photonic devices in SiC:
tuning optical properties via charge carrier concentration. We fabricated
monolithic SiC n-i-n and p-i-n junctions where the intrinsic layer acts as
waveguide core, and demonstrate the waveguide functionality for these samples.
The propagation losses are below 14 dB/cm. These waveguide types allow for
addressing color-centers over a broad wavelength range with low strain-induced
inhomogeneity of the optical-transition frequencies. Furthermore, we expect
that our findings open the road to fabricating waveguides and devices based on
p-i-n junctions, which will allow for integrated electrostatic and radio
frequency (RF) control together with high-intensity optical control of defects
in silicon carbide.
- Abstract(参考訳): 炭化ケイ素における色中心欠陥は、計算、センシング、通信など様々な分野における光電子量子応用を約束する。
これらの機能を既存のシリコンデバイスプラットフォームと組み合わせるためには、SiC集積光学を考えることが不可欠である。
近年、フォトニック結晶キャビティ、フィルムオン絶縁体導波路、マイクロリング共振器など、SiCフォトニックプラットフォームの多くの例が示されている。
しかしこれらの例は全て、SiCの薄膜と基板ウェハの分離に依存している。
これにより表面の粗さ、ひずみ、欠陥が大きくなり、色中心の光学特性の均一性に大きな影響を及ぼす。
ここでは、SiCにおける単結晶集積フォトニックデバイスの作製方法と、電荷キャリア濃度による光学特性のチューニングについて述べる。
我々は,本質層が導波路コアとして作用するモノリシックsic n-i-nおよびp-i-n接合を作製し,導波路機能を示す。
伝搬損失は14dB/cm未満である。
これらの導波路タイプは、光遷移周波数のひずみ誘起不均一性が低い広い波長範囲で色中心に対処することができる。
さらに,p-i-n接合を用いた導波路・デバイス製造への道を開き,炭化ケイ素欠陥の高強度光制御とともに静電・高周波(rf)制御を可能にすることを期待する。
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