論文の概要: Scanning NV magnetometry of focused-electron-beam-deposited cobalt nanomagnets

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2306.06650v2
• Date: Fri, 23 Jun 2023 11:50:13 GMT
• ステータス: 処理完了
• システム内更新日: 2023-06-26 16:44:14.091749
• Title: Scanning NV magnetometry of focused-electron-beam-deposited cobalt nanomagnets
• Title（参考訳）: 集束電子ビーム蒸着コバルトナノマグネットの走査型nv磁気測定
• Authors: Liza \v{Z}aper, Peter Rickhaus, Marcus Wyss, Boris Gross, Martino Poggio, and Floris Braakman
• Abstract要約: 集束電子ビーム誘起堆積は、スピン量子ビット制御のためのナノマグネットを単一ステップでパターン化するための有望な技術である。 このようなプロセスでコバルトナノ磁性体を作製し、電子ビームリソグラフィーで得られるものと同等以上のコバルト含有量と飽和磁化を得る。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
• License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
• Abstract: Focused-electron-beam-induced deposition is a promising technique for patterning nanomagnets for spin qubit control in a single step. We fabricate cobalt nanomagnets in such a process, obtaining cobalt contents and saturation magnetizations comparable to or higher than those typically obtained using electron-beam lithography. We characterize the nanomagnets using transmission electron microscopy and image their stray magnetic field using scanning NV magnetometry, finding good agreement with micromagnetic simulations. The magnetometry reveals the presence of magnetic domains and halo side-deposits, which are common for this fabrication technique. Finally, we estimate dephasing times for electron spin qubits in the presence of disordered stray fields due to these side-deposits.
• Abstract（参考訳）: 集束電子ビーム誘起堆積は、スピン量子ビット制御のためのナノマグネットを単一ステップでパターン化するための有望な技術である。 このようなプロセスでコバルトナノ磁性体を作製し、電子ビームリソグラフィーで得られるものと同等以上のコバルト含有量と飽和磁化を得る。 透過型電子顕微鏡を用いてナノマグネットを特徴付け, 走査型nv磁力計を用いてその成層磁場を撮像し, マイクロ磁気シミュレーションとよく一致した。 磁力計は磁区とハロー側膜の存在を明らかにしており、これはこの製造技術に共通している。 最後に,電子スピン量子ビットについて,これらの側方デポジットによる無秩序成層場の存在下での劣化時間を推定する。

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