論文の概要: Fast-response low power atomic oven for integration into an ion microchip

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2503.10550v1
• Date: Thu, 13 Mar 2025 17:06:45 GMT
• ステータス: 翻訳完了
• システム内更新日: 2025-03-14 15:51:14.710673
• Title: Fast-response low power atomic oven for integration into an ion microchip
• Title（参考訳）: イオンマイクロチップへの集積のための高速応答低出力原子オーブン
• Authors: Vijay Kumar, Martin Siegele-Brown, Parsa Rahimi, Matthew Aylett, Sebastian Weidt, Winfried Karl Hensinger,
• Abstract要約: 我々は、マイクロチップデバイスに容易に組み込むことができる量子技術のための、新しいマイクロファブリケード中性原子源を提案する。 空気中で容易に酸化するBaなどの材料で, 真空中で蒸発物質を担持する方法を実証した。 量子技術において一般的に使用されるイオン種に対して、オーブン寿命を10年以上連続的に使用するように計算する。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 5.33743669363712
• License:
• Abstract: We present a novel microfabricated neutral atom source for quantum technologies that can be easily integrated onto microchip devices using well-established MEMS fabrication techniques, and contrast this to conventional off-chip ion loading mechanisms. The heating filament of the device is shown to be as small as 90$\times$90 $\mu$m$^2$. Testing of the $^{171}$Yb fluorescence response is found to be in the low tens of milliseconds, two orders of magnitude faster compared to previous literature at a power of milliwatts making it desirable for low-power device packages. We demonstrate how the evaporation material can be capped in vacuum to work with materials such as Ba that oxidise easily in air, which can avoid the need for ablation lasers in the loading process. We calculate oven lifetimes to be over 10 years of continuous use for commonly used ion species in quantum technology.
• Abstract（参考訳）: 本稿では, 量子技術のマイクロファブリケート中性原子源として, 確立されたMEMS製造技術を用いて, マイクロチップデバイスに容易に組み込むことが可能であり, 従来のオフチップイオン負荷機構とは対照的である。 装置の加熱フィラメントは90$\times$90$\mu$m$^2$である。 $^{171}$Ybの蛍光応答の試験は、低消費電力のデバイスパッケージに好適なミリワットの電力で、以前の文献に比べて2桁高速である。 空気中で容易に酸化するBaなどの材料で、真空中で蒸発物質をカプセル化して作業することで、負荷過程においてアブレーションレーザーが不要となることを示す。 量子技術において一般的に使用されるイオン種に対して、オーブン寿命を10年以上連続的に使用するように計算する。

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