論文の概要: VERNIER: an open-source software pushing marker pose estimation down to the micrometer and nanometer scales
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2510.02791v1
- Date: Fri, 03 Oct 2025 08:01:24 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2025-10-06 16:35:52.308409
- Title: VERNIER: an open-source software pushing marker pose estimation down to the micrometer and nanometer scales
- Title(参考訳): VERNIER: マーカーを押下するオープンソースのソフトウェア
- Authors: Patrick Sandoz, Antoine N. André, Guillaume J. Laurent,
- Abstract要約: 本稿では,疑似周期パターンに基づく高速かつ信頼性の高いポーズ計測を実現するために設計された,オープンソースの位相処理ソフトウェアであるVERNIERを提案する。
位相ベースの局所しきい値アルゴリズムのおかげで、ソフトウェアは特にノイズ、デフォーカス、閉塞に対して堅牢であることが証明された。
実装手順は、合成画像と実験画像で示される。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 4.021530562599311
- License: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
- Abstract: Pose estimation is still a challenge at the small scales. Few solutions exist to capture the 6 degrees of freedom of an object with nanometric and microradians resolutions over relatively large ranges. Over the years, we have proposed several fiducial marker and pattern designs to achieve reliable performance for various microscopy applications. Centimeter ranges are possible using pattern encoding methods, while nanometer resolutions can be achieved using phase processing of the periodic frames. This paper presents VERNIER, an open source phase processing software designed to provide fast and reliable pose measurement based on pseudo-periodic patterns. Thanks to a phase-based local thresholding algorithm, the software has proven to be particularly robust to noise, defocus and occlusion. The successive steps of the phase processing are presented, as well as the different types of patterns that address different application needs. The implementation procedure is illustrated with synthetic and experimental images. Finally, guidelines are given for selecting the appropriate pattern design and microscope magnification lenses as a function of the desired performance.
- Abstract(参考訳): ポース推定は、小さなスケールでは依然として課題である。
比較的広い範囲でナノメートルとマイクロラディアン分解能を持つ物体の6自由度を捉えるための解はほとんど存在しない。
長年にわたり,様々な顕微鏡アプリケーションに対して信頼性の高い性能を実現するために,ファクトリアルマーカーとパターン設計を提案してきた。
パターン符号化法では、Centimeterレンジが可能であり、周期フレームの位相処理ではナノメートル解像度が達成できる。
本稿では,疑似周期パターンに基づく高速かつ信頼性の高いポーズ計測を実現するために設計された,オープンソースの位相処理ソフトウェアであるVERNIERを提案する。
位相ベースの局所しきい値アルゴリズムのおかげで、ソフトウェアは特にノイズ、デフォーカス、閉塞に対して堅牢であることが証明された。
フェーズ処理の逐次的なステップと、異なるアプリケーションニーズに対処するさまざまなタイプのパターンが提示されます。
実装手順は、合成画像と実験画像で示される。
最後に、所望の性能の関数として、適切なパターン設計と顕微鏡倍率レンズを選択するためのガイドラインが与えられる。
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