論文の概要: Characterizing Neon Thin Film Growth with an NbTiN Superconducting Resonator Array

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2510.21029v1
• Date: Thu, 23 Oct 2025 22:29:41 GMT
• ステータス: 翻訳完了
• システム内更新日: 2025-10-28 09:00:15.333792
• Title: Characterizing Neon Thin Film Growth with an NbTiN Superconducting Resonator Array
• Title（参考訳）: NbTiN超伝導共振器アレイによるネオン薄膜成長特性
• Authors: Kyle Matkovic, Patrick Russell, Andrew Palmer, Eric Helgamo, Lukas Delventhal, Kun Zuo, Kundan Surse, Rajib Rahman, Maja C. Cassidy,
• Abstract要約: 超伝導マイクロ波共振器を用いた薄膜ネオン薄膜の制御と特性評価について報告する。 以上の結果から, 共振器をベースとしたメロロジーがネオン膜成長の指標となることが示唆された。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.1547863211792184
• License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
• Abstract: Electrons levitating above the surface of solid neon have recently emerged as a promising platform for high-quality qubits. The morphology and uniformity of the neon growth in these systems is crucial for qubit performance in a scalable architecture. Here we report on the controlled growth and characterization of thin solid neon films using multiplexed superconducting microwave resonators. By monitoring changes in the resonant frequency and internal quality factor ($Q_i$) of an array of frequency multiplexed quarter-wave coplanar waveguide resonators, we quantify the spatial uniformity of the film. A pulsed gas deposition protocol near the neon triple point results in repeatable film formation, generating measurable shifts in frequency and variations in $Q_i$ across the resonator array. Notably, introducing a post-deposition anneal at 12 K for one hour improves the film homogeneity, as shown by the reduced resonator-to-resonator variance in frequency and $Q_i$, consistent with enhanced wetting. These results demonstrate resonator-based metrology as an in-situ tool for characterising neon film growth, directly supporting the development of electron on inert quantum solid qubit platforms.
• Abstract（参考訳）: 固体ネオンの表面上に浮遊する電子は、最近、高品質の量子ビットのための有望なプラットフォームとして出現している。 これらのシステムにおけるネオン成長の形態と均一性は、スケーラブルなアーキテクチャにおけるキュービット性能に不可欠である。 超伝導マイクロ波共振器を用いた薄膜ネオン薄膜の制御と特性評価について報告する。 周波数多重四分波コプラナー導波路共振器の共振周波数と内部品質係数(Q_i$)の変化をモニタリングすることにより、フィルムの空間的均一性を定量化する。 ネオン三点近傍のパルスガス堆積プロトコルは、繰り返し可能な膜形成をもたらし、共振器アレイ間の周波数および変動の計測可能なシフトを発生させる。 特に、12Kで1時間後アンナールを導入することで、周波数の共振器対共振器のばらつきが減少し、Q_i$が高めのウェッティングと整合したように、膜の均一性が向上する。 これらの結果は、不活性な量子量子量子ビットプラットフォーム上での電子発生を直接支援し、ネオン薄膜成長を特徴付けるためのその場ツールとして共振器ベースのメロロジーを示す。

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