論文の概要: Charge-state stability of single NV centers in HPHT-type IIa diamond
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2511.12591v1
- Date: Sun, 16 Nov 2025 13:25:15 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2025-11-18 14:36:24.395027
- Title: Charge-state stability of single NV centers in HPHT-type IIa diamond
- Title(参考訳): HPHT型IIaダイヤモンドにおける単一NV中心の電荷-状態安定性
- Authors: Darya Meniailava, Michael Petrov, Josef Soucek, Milos Nesladek,
- Abstract要約: 弱ドープHPHT IIaダイヤモンドにおける個々の窒素空孔中心の電荷-状態安定性について検討した。
印加電界と光励起がNV電荷変換を協調的に制御する方法について検討する。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.019488837457688733
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: This is a preliminary version. Improvements and additional analysis will be included in a revised manuscript. We investigate the charge-state stability of individual nitrogen-vacancy (NV) centers in weakly doped HPHT IIa diamond containing sub-ppm concentrations of boron and nitrogen. Using Ti/Al coplanar electrodes on an oxygen-terminated surface, we study how applied electric fields and optical excitation jointly govern NV charge conversion. By combining voltage-dependent photoluminescence, real-time charge-state monitoring, laser-power saturation with spectral decomposition, and time-resolved measurements, we reveal that electric fields several micrometers from the contacts significantly increase the NV- population and enhance spin readout. At low excitation powers, the NV- population evolves on minute timescales following compressed-exponential kinetics, consistent with slow space-charge rearrangement in ultra-insulating diamond. Under pulsed excitation, we observe hundreds-of-nanoseconds NV-/NV0 conversion driven by hole capture, which is strongly suppressed by applied bias. Our results demonstrate that residual boron acceptors play a key role in determining charge-state stability and show how electrical bias can reliably stabilize NV- in weakly doped bulk diamond.
- Abstract(参考訳): これは予備版である。
改良と追加の分析は、改訂された原稿に含まれる。
ホウ素および窒素のサブppm濃度を含む弱いドープHPHT IIaダイヤモンド中の窒素空孔(NV)中心の電荷-状態安定性について検討した。
酸素表面上のTi/Alコプラナー電極を用いて, 印加電界と光励起がNV電荷変換を協調的に制御する方法について検討した。
電圧依存性のフォトルミネッセンス, リアルタイム帯電状態モニタリング, レーザーパワー飽和とスペクトル分解, 時間分解測定を組み合わせることで, 接触部から数マイクロメートルの電場がNV-人口を著しく増加させ, スピンリードアウトを増強することを明らかにする。
低い励起力では、NV-の個体数は、超絶縁ダイヤモンドの遅い空間電荷の再配置と整合した圧縮指数運動量によって、微小な時間スケールで進化する。
パルス励起下では、数百ナノ秒のNV-/NV0変換がホールキャプチャによって駆動され、印加バイアスによって強く抑制される。
その結果, 残留ホウ素受容体は電荷状態安定性を決定する上で重要な役割を担い, 弱ドープバルクダイヤモンド中で電気バイアスがNV-を確実に安定化させることを示す。
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