論文の概要: Surface passivation for narrowing optical linewidth of silicon T centers in nanophotonic devices
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2608.09904v1
- Date: Mon, 10 Aug 2026 17:49:28 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2026-08-11 19:16:37.405443
- Title: Surface passivation for narrowing optical linewidth of silicon T centers in nanophotonic devices
- Title(参考訳): ナノフォトニックデバイスにおけるシリコンT中心の光線幅狭化のための表面移動
- Abstract要約: ナノフォトニクスにおけるT中心の最大の課題はスペクトル拡散であり、表面およびバルク電荷状態からの局所電界環境のゆらぎが光遷移を広げ、光子の不連続性を減少させる。
ここでは,原子層蒸着Al2O3を用いてシリコン表面をパッシブ化し,T中心光線幅を体系的に狭めることを示す。
測定全体では、Al2O3の通過はT中心の放出線幅を最大57%減少させる。
この研究は、スケーラブルな量子フォトニクスアプリケーションのために、シリコンTセンタから区別不可能な光子を生成するためのCMOS互換パスを提供する。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 2.827960376001542
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Silicon T centers are promising spin-photon interfaces in solid-state platforms for telecom-compatible, scalable quantum information technologies. A major challenge for T centers in nanophotonics is spectral diffusion, where fluctuations in the local electric-field environment from surface and bulk charge states broaden the optical transition and reduce photon indistinguishability. Strategies that directly suppress spectral diffusion are therefore critical for improving T-center-based quantum photonic devices. Here, we use atomic-layer-deposited Al2O3 to passivate the silicon surface and demonstrate a systematic narrowing of T center optical linewidths. Across our measurements, Al2O3 passivation reduces the T center emission linewidth by up to 57%. Complementary above-bandgap illumination and spectral hole burning measurements show that the remaining linewidth contains a significant spectral-diffusion component caused by adjacent charge traps, while placing an upper bound of approximately 75 MHz on the homogeneous linewidth. This work provides a CMOS-compatible path toward generating indistinguishable photons from silicon T centers for scalable quantum photonic applications.
- Abstract(参考訳): シリコンTセンターは、テレコム互換でスケーラブルな量子情報技術のための固体プラットフォームにおけるスピン光子インターフェースを約束している。
ナノフォトニクスにおけるT中心の最大の課題はスペクトル拡散であり、表面およびバルク電荷状態からの局所電界環境のゆらぎが光遷移を広げ、光子の不連続性を減少させる。
したがって、スペクトル拡散を直接抑制する戦略は、T中心ベースの量子フォトニクスデバイスを改善するために重要である。
ここでは,原子層蒸着Al2O3を用いてシリコン表面をパッシブ化し,T中心光線幅を体系的に狭めることを示す。
測定全体では、Al2O3の通過はT中心の放出線幅を最大57%減少させる。
相補的なオーバーバンドギャップ照明とスペクトルホール燃焼測定により、残光線幅は、隣接する帯電トラップによって生じる有意なスペクトル拡散成分を含んでおり、同質線幅に約75MHzの上限が設けられている。
この研究は、スケーラブルな量子フォトニクスアプリケーションのために、シリコンTセンタから区別不可能な光子を生成するためのCMOS互換パスを提供する。
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