論文の概要: Efficient formation and identification of single emitters in 4H-SiC following maskless heavy ion implantation
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2608.27281v1
- Date: Thu, 27 Aug 2026 15:53:32 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2026-08-28 16:30:58.477714
- Title: Efficient formation and identification of single emitters in 4H-SiC following maskless heavy ion implantation
- Title(参考訳): マスクレス重イオン注入による4H-SiC中の単一エミッタの効率的な生成と同定
- Abstract要約: 炭化ケイ素(SiC)の単一光子エミッタは、スケーラブルな量子技術の主要なプラットフォームである。
近年の関心は、非常に高い光明度と強いスピン読み出しコントラストを示す酸素空孔関連エミッタに焦点が当てられている。
ここでは, 重イオンビスマスおよびスズを低エネルギーマスクレス注入した4H-SiCにおける孤立した明るい単一発光体の形成を実証する。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Single photon emitters in silicon carbide (SiC) are a leading platform for scalable quantum technologies. Recent interest has focused on oxygen-vacancy-related emitters, which show exceptionally high optical brightness and strong spin readout contrast. One barrier to scalable quantum devices based on these emitters is the challenge of maskless formation and rapid identification. Here, we demonstrate the formation of isolated bright single emitters in 4H-SiC, using low-energy maskless implantation of heavy ions bismuth and tin. Following annealing, up to 18% of implanted sites host a single emitter, with optimal yields achieved at annealing temperatures of 900-1000 degrees C. Occupancy statistics are modelled to estimate the implantation dose that maximises single-emitter yield. We introduce a tiered characterisation scheme, where a simple intensity threshold isolates single-emitter candidates, confirmed through photon correlation measurements, after which correlations between polarisation, saturation count rate and magnetic resonance frequency assign emitter type. It is shown that time-consuming low-temperature spectroscopy is not necessary to distinguish emitter types. Together, maskless heavy-ion implantation and selective screening offer an efficient route to forming and rapidly identifying near-surface single emitters for room-temperature quantum technologies such as quantum sensing.
- Abstract(参考訳): 炭化ケイ素(SiC)の単一光子エミッタは、スケーラブルな量子技術の主要なプラットフォームである。
近年の関心は、非常に高い光明度と強いスピン読み出しコントラストを示す酸素空孔関連エミッタに焦点が当てられている。
これらのエミッタに基づくスケーラブルな量子デバイスに対する障壁の1つは、マスクレス生成と迅速な識別の課題である。
ここでは, 重イオンビスマスおよびスズを低エネルギーマスクレス注入した4H-SiCにおける孤立した明るい単一発光体の形成を実証する。
熱処理後、最大で18%の埋込み部位が1つのエミッタを収容し、900-1000°Cの温度で最適な収率を得る。
簡単な強度閾値で単一エミッタ候補を分離し,光子相関測定により確認し,その後に偏光,飽和数率,磁気共鳴周波数の相関関係でエミッタ型を割り当てるタイレッドキャラクタリゼーション方式を提案する。
その結果,エミッタ型を識別するには,時間を要する低温分光法は必要ないことがわかった。
マスクレス重イオン注入と選択的スクリーニングは、量子センシングのような室温量子技術のための表面近傍の単一放射体の形成と迅速同定に効率的な経路を提供する。
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