論文の概要: Pendellösung length-scale neutron and X-ray interferometry

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2609.24709v1
• Date: Mon, 21 Sep 2026 14:52:19 GMT
• ステータス: 翻訳完了
• システム内更新日: 2026-09-22 20:29:01.35002
• Title: Pendellösung length-scale neutron and X-ray interferometry
• Title（参考訳）: Pendellösung長大中性子とX線干渉計
• Abstract要約: 中性子とX線の両方で動作する110$mと350$mの半黒度を持つシリコン三層膜干渉計を実演した。 これらのデバイスは、これまで実現された最も薄いPCIであり、動的回折ビームの拡散の6倍の低減を可能にする。 その結果,同一の半鉛スン結晶ラメラを用いたマルチブレードPCI設計の動機付けが得られた。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 28.16877188452825
• License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
• Abstract: Neutron and X-ray perfect-crystal interferometers (PCIs) are powerful platforms for studies of fundamental physics and phase-contrast imaging. Further enhancing several PCI capabilities requires reducing crystal blade thickness to the micron scale, which minimizes dynamical-diffraction image blur, permits operation in the pendellösung regime where blade thickness controls beam splitting, and reduces absorption for simultaneous neutron and X-ray operation. However, fabricating multiple crystal blades with identical micrometer-scale thicknesses over centimeter-scale areas remains a major challenge. Here, using a non-etching sub-micron fabrication technique, we demonstrate silicon triple-Laue interferometers with equal-blade-thicknesses of 110 $μ$m and 350 $μ$m, operated with both neutrons and X-rays. These devices are the thinnest PCIs realized to date, enabling a factor-of-six reduction in dynamical-diffraction beam spreading for improved phase-contrast imaging, while reaching the single pendellösung length regime in which crystal thickness provides an experimentally accessible control parameter for engineered quantum-optical beam splitting of plane-wave inputs. These results motivate multi-blade PCI designs utilizing identical half-pendellösung crystal lamellae that are proposed for neutron spin--orbit and electric dipole moment measurements.
• Abstract（参考訳）: 中性子とX線完全結晶干渉計(PCI)は、基礎物理学と位相コントラストイメージングの研究のための強力なプラットフォームである。 さらにいくつかのPCI機能を増強するには、動的回折像のぼかしを最小限に抑え、ブレード厚がビーム分割を制御するペンデレーソン政権での運転を許可し、同時に中性子とX線を放射する吸収を減らす必要がある。 しかし、同じミクロスケールの厚さの複数の結晶刃をセンチスケールで製造することは大きな課題である。 ここでは、非エッチングサブミクロン製造法を用いて、中性子とX線の両方で作動する110$μ$mと350$μ$mの半黒度を持つシリコン三層膜干渉計を実演する。 これらのデバイスは、これまで実現された最も薄いPCIであり、位相コントラストイメージングを改善するために動的回折ビームの拡散係数を6倍に低減し、一方、結晶厚が平面波入力のエンジニアリングされた量子光学ビーム分割のための実験的にアクセス可能な制御パラメータを提供する単一のペンデレーション長状態に達する。 これらの結果は、中性子スピン軌道と電気双極子モーメント測定のために提案された、同一の半ペンデレーション結晶ラメラを用いたマルチブレードPCI設計を動機付けている。

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