論文の概要: Deterministic positioning accuracy of B centers in hBN by electron irradiation
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2610.16468v1
- Date: Mon, 12 Oct 2026 09:23:44 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2026-10-18 23:04:04.226212
- Title: Deterministic positioning accuracy of B centers in hBN by electron irradiation
- Title(参考訳): 電子線照射によるhBN中のB中心の決定論的位置決め精度
- Abstract要約: 六方晶窒化ホウ素(ヘキサゴナルホウ素、英: hexagonal boron nitride、hBN)は、量子技術のための有望な材料プラットフォームである。
B中心は電子線照射を用いて予め定義された位置で個別に生成することができる。
そこで我々は,走査型電子顕微鏡(SEM)において,その場でカソードルミネッセンス(CL)モニタリングを行う個々のB中心の配列を生成する。
この寄与はエミッタ製造精度の主な制約であり、標準偏差は27nmである。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Hexagonal boron nitride (hBN) is a promising material platform for quantum technologies, enabling both the realization of nanophotonic devices and the hosting of point defects that act as high-quality single-photon emitters (SPEs). Among these defects, B centers, which reproducibly emit at 436 nm, can be generated individually at predefined positions using electron beam irradiation, a crucial capability for top-down quantum photonics. Yet, the spatial accuracy of emitter creation strongly conditions the potential applications. Here, we generate arrays of individual B centers in a scanning electron microscope (SEM) with in-situ cathodoluminescence (CL) monitoring. We characterize the sources of random deviations from the target positions to identify the limitations to their deterministic positioning. In particular, we measure the distance between the electron beam and the emitter at the moment the emitter is created based on CL mapping. This approach provides a direct estimation of the spatial extent of the beam-emitter interaction. We find this contribution to be the main constraint to the emitter fabrication accuracy, yielding a standard deviation of 27 nm. Additional contributions, primarily from the finite density of UV-emitting carbon dimer precursors, increase the overall positional standard deviation to 40 nm. Our results highlight the possible improvements to the B center creation technique to reach sub-10 nm accuracy.
- Abstract(参考訳): 六方晶窒化ホウ素(hBN)は量子技術の有望な材料プラットフォームであり、ナノフォトニックデバイスの実現と高品質の単一光子放出体(SPE)として機能する点欠陥のホスティングを可能にする。
これらの欠陥の中で、436nmで再現的に放出されるB中心は、トップダウン量子フォトニクスにとって重要な機能である電子ビーム照射を用いて、予め定義された位置で個別に生成することができる。
しかし、エミッタ生成の空間的精度は潜在的な応用を強く条件付ける。
そこで我々は,走査型電子顕微鏡(SEM)において,その場でカソードルミネッセンス(CL)モニタリングを行う個々のB中心の配列を生成する。
対象位置からのランダムな偏差の源泉を特徴付け,その決定論的位置に対する限界を同定する。
特に、CLマッピングに基づいてエミッタが生成された時点での電子線とエミッタの距離を測定する。
このアプローチは、ビーム-エミッタ相互作用の空間範囲を直接推定する。
この寄与はエミッタ製造精度の主な制約であり、標準偏差は27nmである。
主に紫外線を放出する炭素二量体前駆体の有限密度から追加の寄与により、全体の位置標準偏差は40nmに増加する。
以上の結果から,B中心生成技術が10nm未満の精度に到達する可能性が示唆された。
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