論文の概要: Development of a fabrication-to-benchtop process for SiN-based quantum devices
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2610.22776v1
- Date: Fri, 16 Oct 2026 00:37:02 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2026-10-20 00:56:07.721308
- Title: Development of a fabrication-to-benchtop process for SiN-based quantum devices
- Title(参考訳): SiN系量子デバイスのための製造-ベンチトッププロセスの開発
- Abstract要約: 窒化ケイ素デバイスのための製造工程を紹介する。
光学的損失と材料特性の包括的評価を行う。
我々はマイクロリング共振器をシミュレートし、光ソリトン生成への応用を実証する。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Silicon nitride has emerged as a key material for the advancement of future quantum communication and computational devices. However, challenges persist in establishing a comprehensive development process, spanning from fabrication to optical characterization, essential for advancing these devices to their next stage of potential. Maintaining control over the entire process, from start to finish, alongside device modeling, enables more efficient and timely iteration and optimization. Here we introduce a fabrication-to-benchtop process. We employ an in-house stoichiometric recipe for device fabrication and conduct comprehensive characterization of optical losses and material properties. Understanding and controlling the refractive index of the device are vital for predicting device geometries and group indices. Implementing the refractive indices of our fabricated devices, we simulate microring resonators and demonstrate their application in generating optical solitons.
- Abstract(参考訳): 窒化ケイ素は将来の量子通信と計算装置の発展の鍵となる材料として登場した。
しかし、製造から光学的特徴まで、これらのデバイスを次世代のポテンシャルへと進化させるために必要な包括的な開発プロセスを確立する上では、課題が続いている。
開始から終了までのプロセス全体を制御することは、デバイスモデリングとともに、より効率的でタイムリーなイテレーションと最適化を可能にします。
ここでは, ベンチトッププロセスについて紹介する。
装置製造には室内の化学量測定法を用いており、光学的損失と材料特性の包括的評価を行っている。
デバイスの屈折率の理解と制御は、デバイスジオメトリやグループインデックスの予測に不可欠である。
マイクロリング共振器をシミュレートし,光ソリトン生成への応用を実証する。
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