論文の概要: Better Patch Stitching for Parametric Surface Reconstruction
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2010.07021v1
- Date: Wed, 14 Oct 2020 12:37:57 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2022-10-07 13:36:20.666169
- Title: Better Patch Stitching for Parametric Surface Reconstruction
- Title(参考訳): パラメトリック表面再構成のためのパッチステッチングの改善
- Authors: Zhantao Deng, Jan Bedna\v{r}\'ik, Mathieu Salzmann, Pascal Fua
- Abstract要約: ローカルマッピングのグローバルな一貫性を明示的に促進するアプローチを導入する。
第一項は表面の正規性を利用しており、個々の写像内および全体にわたって推定された場合、局所的に一貫した状態を保つことを要求する。
第2項はさらに、新しい縫合誤差を最小化することにより、マッピングの空間構成を改善する。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 100.55842629739574
- License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
- Abstract: Recently, parametric mappings have emerged as highly effective surface
representations, yielding low reconstruction error. In particular, the latest
works represent the target shape as an atlas of multiple mappings, which can
closely encode object parts. Atlas representations, however, suffer from one
major drawback: The individual mappings are not guaranteed to be consistent,
which results in holes in the reconstructed shape or in jagged surface areas.
We introduce an approach that explicitly encourages global consistency of the
local mappings. To this end, we introduce two novel loss terms. The first term
exploits the surface normals and requires that they remain locally consistent
when estimated within and across the individual mappings. The second term
further encourages better spatial configuration of the mappings by minimizing
novel stitching error. We show on standard benchmarks that the use of normal
consistency requirement outperforms the baselines quantitatively while
enforcing better stitching leads to much better visual quality of the
reconstructed objects as compared to the state-of-the-art.
- Abstract(参考訳): 近年、パラメトリックマッピングは、高い有効表面表現として現れ、低い再構成誤差を生じる。
特に、最新の作品は対象の形状を複数のマッピングのアトラスとして表現しており、オブジェクト部品を密にエンコードすることができる。
しかし、アトラス表現には1つの大きな欠点がある。個々のマッピングは一貫性が保証されていないため、再構成された形状やジャグリングされた表面領域に穴が開くことになる。
ローカルマッピングのグローバル一貫性を明示的に奨励するアプローチを導入する。
この目的のために2つの新しい損失項を導入する。
第一項では、表面の正規性を利用し、個々のマッピング内外における推定時に局所的に一貫性を保つことを要求する。
第二項はさらに、新しい縫合誤差を最小限にしてマッピングの空間的構成を改善する。
標準ベンチマークでは, 通常の整合性要件を用いることで, 基準線を定量的に上回り, 縫合性も向上し, 再建された物体の視覚的品質は, 最先端のものと比べ, はるかに向上することを示した。
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