Fugu-MT 論文翻訳(概要): Amplification and Excitation of Surface Plasmon Polaritons via Four-Wave Mixing Process

論文の概要: Amplification and Excitation of Surface Plasmon Polaritons via Four-Wave Mixing Process

arxiv url: http://arxiv.org/abs/2308.11899v1
Date: Wed, 23 Aug 2023 03:55:04 GMT
ステータス: 処理完了
システム内更新日: 2023-08-24 15:59:19.925950
Title: Amplification and Excitation of Surface Plasmon Polaritons via Four-Wave Mixing Process
Title（参考訳）: 4波混合法による表面プラズモン分極の増幅と励起
Authors: Andleeb Zahra, Muqaddar Abbas, Rahmat Ullah
Abstract要約: 我々は、金属と半導体量子井戸(SQW)の界面に沿った表面プラズモン分極(SPP)の励起と増幅のスキームを提案する。 SQWは、量子干渉効果を示す4レベルの非対称な二重量子井戸からなる。提案システムでは,FWMプロセスを通じて利得を導入することにより,SPPの固有損失を補償する。
参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Abstract: We suggest a scheme for the excitation and amplification of surface plasmon polaritons (SPPs) along the interface between metal and semiconductor quantum well (SQW), employing a four-wave mixing (FWM) process. The SQW consists of four-level asymmetric double quantum wells that exhibit quantum interference effects, which leads to the coupler-free excitation of SPPs. In our proposed system, the inherent losses of SPPs are compensated by introducing gain through the FWM process. This results in a significant enhancement in the propagation length and large penetration depth of SPPs. We further analyze the effect of gain on the long-range and short-range SPPs and observe that the propagation distance and lifetime of both types of SPPs are enhanced.
Abstract（参考訳）: 金属と半導体量子井戸(SQW)の界面に沿った表面プラズモン分極(SPP)の励起と増幅を4波混合(FWM)プロセスを用いて提案する。 sqwは、量子干渉効果を示す4段階の非対称二重量子井戸からなり、spsのカプラのない励起に繋がる。提案システムでは,FWMプロセスを通じて利得を導入することにより,SPPの固有損失を補償する。その結果,SPPの伝播長と浸透深度が大きく向上した。さらに,長距離および短距離SPPにおける利得の影響を解析し,両タイプのSPPの伝播距離と寿命が向上することが確認された。

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