論文の概要: Controlling Atom-Surface Scattering with Laser Assisted Quantum
Reflection
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2311.15357v1
- Date: Sun, 26 Nov 2023 17:18:08 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-11-28 18:08:36.313673
- Title: Controlling Atom-Surface Scattering with Laser Assisted Quantum
Reflection
- Title（参考訳）: レーザー支援量子反射による原子表面散乱の制御
- Authors: A. L. Harris
- Abstract要約: 低エネルギー原子-表面散乱では、古典的な旋回点を持たない魅力的なポテンシャルの領域で原子を反射することができる。
レーザー支援量子反射の場合、レーザー場は原子にさらなる運動量と運動エネルギーを与える。
- 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
- Abstract: In low energy atom-surface scattering, it is possible for the atom to be
reflected in a region of attractive potential with no classical turning point.
This phenomenon has come to be known as quantum reflection and it can reduce
the sticking probability of atoms to surfaces, as well be used for atom
trapping. We simulate the quantum reflection process in a one-dimensional model
with a slow-moving atom moving in a Morse potential in the presence of an
applied laser field. We show that in the case of laser-assisted quantum
reflection, the laser field imparts additional momentum and kinetic energy to
the atom. This results in a decreased distance of closest approach between the
atom and surface. Our results show that the distance of closest approach and
can be controlled through the timing and intensity of the laser pulse, which
may result in enhanced sticking probability and/or reduced quantum reflection
probability.
- Abstract（参考訳）: 低エネルギー原子-表面散乱では、古典的な旋回点を持たない魅力的なポテンシャルの領域で原子を反射することができる。
この現象は量子反射(quantum reflection)として知られており、原子の表面に付着する確率を減少させ、また原子トラップにも用いられる。
我々は、印加されたレーザー場の存在下でモースポテンシャル内をゆっくり動く原子を持つ1次元モデルで量子反射過程をシミュレートする。
レーザー支援量子反射の場合、レーザー場は原子にさらなる運動量と運動エネルギーを与える。
これにより、原子と表面の間の最接近距離が減少する。
その結果,レーザーパルスのタイミングや強度によって距離を制御でき,粘着率や量子反射率の低減が期待できることがわかった。
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