論文の概要: Parallax-Tolerant Image Stitching with Epipolar Displacement Field
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2311.16637v1
- Date: Tue, 28 Nov 2023 09:44:01 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-11-29 19:11:49.284430
- Title: Parallax-Tolerant Image Stitching with Epipolar Displacement Field
- Title(参考訳): エピポーラ変位場を用いたParallax-Tolerant Image Stitching
- Authors: Jian Yu, Yi Yu, Feipeng Da
- Abstract要約: 本稿では, エピポーラ変位場に基づくワープ技術を確立するために, エピポーラ幾何学を利用する新しい手法を提案する。
縫合結果は、エピポーラ変位場に応じて画素を逆ワープすることで生成される。
この方法は、ワーピング則にエピポーラ制約を組み込んで、高品質なアライメントを確保し、パノラマの射影性を維持する。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 21.806156072829168
- License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
- Abstract: Large parallax image stitching is a challenging task. Existing methods often
struggle to maintain both the local and global structures of the image while
reducing alignment artifacts and warping distortions. In this paper, we propose
a novel approach that utilizes epipolar geometry to establish a warping
technique based on the epipolar displacement field. Initially, the warping rule
for pixels in the epipolar geometry is established through the infinite
homography. Subsequently, Subsequently, the epipolar displacement field, which
represents the sliding distance of the warped pixel along the epipolar line, is
formulated by thin plate splines based on the principle of local elastic
deformation. The stitching result can be generated by inversely warping the
pixels according to the epipolar displacement field. This method incorporates
the epipolar constraints in the warping rule, which ensures high-quality
alignment and maintains the projectivity of the panorama. Qualitative and
quantitative comparative experiments demonstrate the competitiveness of the
proposed method in stitching images large parallax.
- Abstract(参考訳): 大きな視差画像縫合は難しい作業である。
既存の手法では、画像の局所的構造と大域的構造の両方を維持するのに苦労し、アライメントアーティファクトの低減や歪みの抑制に苦労することが多い。
本稿では, エピポーラ変位場に基づくワープ技術を確立するために, エピポーラ幾何を利用した新しいアプローチを提案する。
当初、エピポーラ幾何学における画素の歪み規則は無限ホモグラフィーによって確立される。
その後、局所的な弾性変形の原理に基づいて、歪んだ画素のエピポーラ線に沿っての滑り距離を表すエピポーラ変位場を薄板スプラインで定式化する。
この縫合結果は、エピポーラ変位場に応じて画素を逆回転させることで得られる。
この方法では、エピポーラ制約をワーピング規則に取り入れ、高品質なアライメントを保証し、パノラマの射影性を維持する。
大視差画像の縫合における提案手法の競合性を示す定性的,定量的な比較実験を行った。
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