Fugu-MT 論文翻訳(概要): Optimizing Josephson Junction Reproducibility in 30 kV E-beam Lithography: Analysis of Backscattered Electron Distribution

論文の概要: Optimizing Josephson Junction Reproducibility in 30 kV E-beam Lithography: Analysis of Backscattered Electron Distribution

arxiv url: http://arxiv.org/abs/2403.19614v1
Date: Thu, 28 Mar 2024 17:32:41 GMT
ステータス: 処理完了
システム内更新日: 2024-03-29 15:14:42.395100
Title: Optimizing Josephson Junction Reproducibility in 30 kV E-beam Lithography: Analysis of Backscattered Electron Distribution
Title（参考訳）: 30kV電子ビームリソグラフィーにおけるジョセフソン接合の最適再現性:後方散乱電子分布の解析
Authors: A. M. Rebello, L. M. Ruela, G. Moreto, N. Y. Klein, E. Martins, I. S. Oliveira, F. Rouxinol, J. P. Sinnecker,
Abstract要約: 本研究は,橋梁周辺における線量分布のシミュレーションへの影響について検討し,製造感度に関する課題に対処する。本研究は, 接合部における線量分布の均質化を図り, 接合部における線量分布の均質化を図ったものである。
参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Abstract: This paper explores methods to enhance the reproducibility of Josephson junctions, crucial elements in superconducting quantum technologies, when employing the Dolan technique in 30 kV e-beam processes. The study explores the influence of dose distribution along the bridge area on reproducibility, addressing challenges related to fabrication sensitivity. Experimental methods include E-beam lithography, with electron trajectory simulations shedding light on backscattered electron behavior. We demonstrate the fabrication of different junction geometries, revealing that some geometries significantly improve reproducibility by resulting in a more homogeneous dose distribution over the junction area.
Abstract（参考訳）: 本稿では,超伝導量子技術において重要な要素であるジョセフソン接合の再現性を高める手法を,30kVの電子ビームプロセスでドラン法を用いて検討する。本研究は,橋梁周辺の線量分布が再現性に及ぼす影響について検討し,製造感度に関する課題に対処する。 Eビームリソグラフィー(E-beam lithography)や電子軌道シミュレーション(Electron trajectory Simulation)は、後方散乱電子の挙動に光を遮蔽する。本研究は, 接合部における線量分布の均質化により, 再現性を著しく向上することを明らかにするものである。

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