論文の概要: Sparks of Artificial General Intelligence(AGI) in Semiconductor Material Science: Early Explorations into the Next Frontier of Generative AI-Assisted Electron Micrograph Analysis
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2409.12244v1
- Date: Tue, 17 Sep 2024 04:25:27 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2024-11-07 15:38:21.285161
- Title: Sparks of Artificial General Intelligence(AGI) in Semiconductor Material Science: Early Explorations into the Next Frontier of Generative AI-Assisted Electron Micrograph Analysis
- Title(参考訳): 半導体材料科学における人工知能(AGI)の火花 : 生成型AI支援電子顕微鏡解析の次のフロンティアを探る
- Authors: Sakhinana Sagar Srinivas, Geethan Sannidhi, Sreeja Gangasani, Chidaksh Ravuru, Venkataramana Runkana,
- Abstract要約: 我々は、ジェネレーティブAIの最近の進歩を活用する、完全に自動化されたエンドツーエンドパイプラインを導入します。
提案手法では,GPT-4V などの大規模マルチモーダルモデル (LMM) と DALLE-3 のようなテキスト・ツー・イメージモデルを用いる。
我々は、GPT-4ガイド付き視覚質問応答法(VQA)を統合し、ナノマテリアル画像を分析し、DALLE-3を介して合成ナノマテリアル画像を生成し、GPT-4Vで数発のプロンプトによるインコンテキスト学習を用いて正確なナノマテリアル識別を行う。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
- Abstract: Characterizing materials with electron micrographs poses significant challenges for automated labeling due to the complex nature of nanomaterial structures. To address this, we introduce a fully automated, end-to-end pipeline that leverages recent advances in Generative AI. It is designed for analyzing and understanding the microstructures of semiconductor materials with effectiveness comparable to that of human experts, contributing to the pursuit of Artificial General Intelligence (AGI) in nanomaterial identification. Our approach utilizes Large MultiModal Models (LMMs) such as GPT-4V, alongside text-to-image models like DALLE-3. We integrate a GPT-4 guided Visual Question Answering (VQA) method to analyze nanomaterial images, generate synthetic nanomaterial images via DALLE-3, and employ in-context learning with few-shot prompting in GPT-4V for accurate nanomaterial identification. Our method surpasses traditional techniques by enhancing the precision of nanomaterial identification and optimizing the process for high-throughput screening.
- Abstract(参考訳): 電子マイクログラフを用いた材料の特徴付けは、ナノマテリアル構造の複雑な性質のため、自動ラベリングにおいて重要な課題となる。
これを解決するために、Generative AIの最近の進歩を活用する、完全に自動化されたエンドツーエンドパイプラインを導入しました。
半導体材料の微細構造を人間の専門家と同等に分析・理解するために設計され、ナノ材料識別における人工知能(AGI)の追求に寄与している。
提案手法では,GPT-4V などの大規模マルチモーダルモデル (LMM) と DALLE-3 のようなテキスト・ツー・イメージモデルを用いる。
我々は、GPT-4ガイド付き視覚質問応答法(VQA)を統合し、ナノマテリアル画像を解析し、DALLE-3を介して合成ナノマテリアル画像を生成し、GPT-4Vで数発のプロンプトによるインコンテクスト学習を用いて正確なナノマテリアル識別を行う。
本手法は, ナノ材料識別の精度を高め, 高スループットスクリーニングプロセスの最適化により, 従来の技術を超えている。
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