論文の概要: Enhanced Photonic Chip Design via Interpretable Machine Learning Techniques
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2505.09266v1
- Date: Wed, 14 May 2025 10:32:50 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2025-05-15 21:44:09.421888
- Title: Enhanced Photonic Chip Design via Interpretable Machine Learning Techniques
- Title(参考訳): 解釈可能な機械学習技術によるフォトニックチップ設計の強化
- Authors: Lirandë Pira, Airin Antony, Nayanthara Prathap, Daniel Peace, Jacquiline Romero,
- Abstract要約: フォトニックチップの設計は、逆設計手法を採用することで大きな進歩を遂げた。
逆設計で使用されるような最適化アプローチのブラックボックスの性質は、出力を理解する上での課題を提起する。
本研究では,フォトニック部品の設計に使用される逆設計最適化の理解を深めることを目的として,機械学習の解釈可能性技術を適用した。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Photonic chip design has seen significant advancements with the adoption of inverse design methodologies, offering flexibility and efficiency in optimizing device performance. However, the black-box nature of the optimization approaches, such as those used in inverse design in order to minimize a loss function or maximize coupling efficiency, poses challenges in understanding the outputs. This challenge is prevalent in machine learning-based optimization methods, which can suffer from the same lack of transparency. To this end, interpretability techniques address the opacity of optimization models. In this work, we apply interpretability techniques from machine learning, with the aim of gaining understanding of inverse design optimization used in designing photonic components, specifically two-mode multiplexers. We base our methodology on the widespread interpretability technique known as local interpretable model-agnostic explanations, or LIME. As a result, LIME-informed insights point us to more effective initial conditions, directly improving device performance. This demonstrates that interpretability methods can do more than explain models -- they can actively guide and enhance the inverse-designed photonic components. Our results demonstrate the ability of interpretable techniques to reveal underlying patterns in the inverse design process, leading to the development of better-performing components.
- Abstract(参考訳): フォトニックチップの設計は、デバイスの性能を最適化する柔軟性と効率性を提供する逆設計手法を採用することで大きな進歩を遂げた。
しかしながら、損失関数の最小化や結合効率の最大化のために、逆設計で使用されるような最適化アプローチのブラックボックスの性質は、出力を理解する上での課題を提起する。
この課題は、同じ透明性の欠如に悩まされる、機械学習ベースの最適化手法に多い。
この目的のために、解釈可能性技術は最適化モデルの不透明性に対処する。
本研究では,フォトニックコンポーネント,特に2モード多重化器の設計に使用される逆設計最適化の理解を深めることを目的として,機械学習の解釈可能性技術を適用した。
我々は,局所的解釈可能なモデル非依存的説明(LIME)として知られる,幅広い解釈可能性技術に基づく方法論を提案する。
その結果、LIMEインフォームドインサイトはより効果的な初期条件を示し、デバイスの性能を直接的に改善した。
これは、解釈可能性法がモデルを説明する以上のことができることを示している -- 逆設計のフォトニックコンポーネントを積極的にガイドし、強化することができる。
本研究は, 逆設計プロセスにおける基礎となるパターンを明らかにするための解釈技術の有効性を示し, 優れた性能の部品の開発に繋がることを示す。
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