論文の概要: Fabrication effects on Niobium oxidation and surface contamination in Niobium-metal bilayers using X-ray photoelectron spectroscopy
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2601.21953v1
- Date: Thu, 29 Jan 2026 16:32:46 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2026-01-30 16:22:49.997762
- Title: Fabrication effects on Niobium oxidation and surface contamination in Niobium-metal bilayers using X-ray photoelectron spectroscopy
- Title（参考訳）: X線光電子分光法によるニオブ金属二層膜のニオブ酸化と表面汚染に及ぼす製造効果
- Authors: Tathagata Banerjee, Maciej W. Olszewski, Valla Fatemi,
- Abstract要約: X線光電子分光法を用いてニオブのさらなるデバイス製造における有効キャップ層について検討した。
キャッピング層17層を非破壊的に評価し,酸素拡散防止能力と標準製法の影響を特徴付ける。
- 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Superconducting resonators and qubits are limited by dielectric losses from surface oxides. Surface oxides are mitigated through various strategies such as the addition of a metal capping layer, surface passivation, and acid processing. In this study, we demonstrate the use of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) as a rapid characterization tool to study the effectiveness cap layers for niobium for further device fabrication. We non-destructively evaluate 17 capping layers to characterize their ability to prevent oxygen diffusion, and the effects of standard fabrication processes -- annealing, resist stripping, and acid cleaning. We downselect for resilient capping layers and test their microwave resonator performance.
- Abstract（参考訳）: 超伝導共振器と量子ビットは表面酸化物からの誘電損失によって制限される。
表面酸化物は、金属キャッピング層の追加、表面のパッシベーション、酸処理など様々な戦略によって緩和される。
本研究では,X線光電子分光法(XPS)を高速キャラクタリゼーションツールとして用いて,ニオブの有効キャップ層の研究を行った。
キャッピング層17層を非破壊的に評価し,酸素拡散防止能力と,アニーリング,レジスト・ストリップ,酸洗浄などの標準的な製造プロセスの効果を評価した。
我々は、レジリエントなキャッピング層を選択し、マイクロ波共振器の性能を試験する。
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