論文の概要: Defect Detection on Semiconductor Wafers by Distribution Analysis
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2111.03727v1
- Date: Fri, 5 Nov 2021 21:00:22 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2021-11-11 06:05:52.955362
- Title: Defect Detection on Semiconductor Wafers by Distribution Analysis
- Title(参考訳): 分布解析による半導体ウェハの欠陥検出
- Authors: Thomas Olschewski
- Abstract要約: 提案アルゴリズムは, 製品種別10万チップ近いウエハ加工から実世界の計測データに適用された。
我々のアプローチは、高速(準線形)であり、実世界のウエハデータに対する優れた予測や検出品質に到達したという点で興味深い。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: A method for object classification that is based on distribution analysis is
proposed. In addition, a method for finding relevant features and the
unification of this algorithm with another classification algorithm is
proposed. The presented classification algorithm has been applied successfully
to real-world measurement data from wafer fabrication of close to hundred
thousand chips of several product types. The presented algorithm prefers
finding the best rater in a low-dimensional search space over finding a good
rater in a high-dimensional search space. Our approach is interesting in that
it is fast (quasi-linear) and reached good to excellent prediction or detection
quality for real-world wafer data.
- Abstract(参考訳): 分布解析に基づくオブジェクト分類手法を提案する。
また,関連する特徴の発見と,このアルゴリズムを他の分類アルゴリズムと統合する手法を提案する。
提示された分類アルゴリズムは,複数の製品タイプから10万枚近いチップをウェーハで作製した実世界の計測データにうまく適用されている。
提案アルゴリズムは,高次元探索空間において,優れたレーダを求めるよりも,低次元探索空間で最高のレーダを求めることを好む。
提案手法は,実世界のウェハデータに対する予測精度や検出品質に優れる,高速(量子線形)な手法であるという点で興味深い。
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