論文の概要: Interface and electromagnetic effects in the valley splitting of Si
quantum dots
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2303.13661v1
- Date: Thu, 23 Mar 2023 20:30:53 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-03-27 16:30:10.914110
- Title: Interface and electromagnetic effects in the valley splitting of Si
quantum dots
- Title(参考訳): Si量子ドットの谷分割における界面と電磁効果
- Authors: Jonas R. F. Lima and Guido Burkard
- Abstract要約: 電磁界と界面幅がSi/SiGeヘテロ構造における量子ドットの谷分割に及ぼす影響について検討する。
谷分割計算のための有効質量論における新しい3次元理論モデルを提案する。
上述のスピン量子ビットの最良の選択肢は、可能な限り広義のインタフェースを考えることである。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/publicdomain/zero/1.0/
- Abstract: The performance and scalability of silicon spin qubits depend directly on the
value of the conduction band valley splitting. In this work, we investigate the
influence of electromagnetic fields and the interface width on the valley
splitting of a quantum dot in a Si/SiGe heterostructure. We propose a new
three-dimensional theoretical model within the effective mass theory for the
calculation of the valley splitting in such heterostructures that takes into
account the concentration fluctuation at the interfaces and the lateral
confinement. With this model, we predict that the electric field is an
important parameter for valley splitting engineering, since it can shift the
probability distribution away from small valley splittings for some interface
widths. We also obtain a critical softness of the interfaces in the
heterostructure, above which the best option for spin qubits is to consider an
interface as wide as possible.
- Abstract(参考訳): シリコンスピン量子ビットの性能と拡張性はコンダクテーションバンドのバレー分割の値に直接依存する。
本研究では,Si/SiGeヘテロ構造における量子ドットの谷分割に及ぼす電磁場と界面幅の影響について検討する。
このようなヘテロ構造における谷分割の計算のための有効質量理論における新しい3次元理論モデルを提案し、界面における濃度変動と側方閉じ込めを考慮に入れた。
このモデルを用いて,この電場が谷分割工学の重要なパラメータとなることを予測した。
また, スピン量子ビットに対する最善の選択肢は, 界面を可能な限り広く考えることである。
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