論文の概要: Nanoscale Mechanical Structures Fabricated from Silicon-on-Insulator Substrates

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2505.04574v1
• Date: Wed, 07 May 2025 17:11:17 GMT
• ステータス: 翻訳完了
• システム内更新日: 2025-05-08 19:07:36.159523
• Title: Nanoscale Mechanical Structures Fabricated from Silicon-on-Insulator Substrates
• Title（参考訳）: シリコンオン絶縁体基板から作製したナノ構造
• Authors: Andrew N. Cleland, Michael L. Roukes,
• Abstract要約: シリコン・オン・絶縁体基板からサブミクロン・メカニカル構造を作製する手法について述べる。 このような製法が最初に報告された方法である。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
• License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
• Abstract: We describe a method with which to fabricate sub-micron mechanical structures from silicon-on-insulator substrates. We believe this is the first reported method for such fabrication, and our technique allows for complex, multilayer electron beam lithography to define metallized layers and structural Si layers on these substrates. The insulating underlayer may be removed by a straightforward wet processing step, leaving suspended single crystal Si mechanical structures. We have fabricated and mechanically tested structures such as beam resonators, tuning-fork resonators, and torsional oscillators, all with smallest dimensions of 0.1-0.2 microns and fundamental resonance frequencies above 10 MHz.
• Abstract（参考訳）: シリコン・オン・絶縁体基板からサブミクロン・メカニカル構造を作製する手法について述べる。 この手法により, 金属化層やSiの構造層を, 複雑な多層電子線リソグラフィーで定義することが可能となる。 絶縁下層を簡単な湿式加工工程で除去し、懸濁した単結晶Siの機械構造を残す。 我々は、ビーム共振器、チューニングフォーク共振器、ねじり発振器など、最小次元0.1-0.2ミクロンと10MHz以上の基本共振周波数を持つ構造を作製し、機械的に試験した。

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