論文の概要: Fabrication of airbridges with gradient exposure

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2506.14565v1
• Date: Tue, 17 Jun 2025 14:23:54 GMT
• ステータス: 翻訳完了
• システム内更新日: 2025-06-18 17:34:59.515746
• Title: Fabrication of airbridges with gradient exposure
• Title（参考訳）: 勾配露光によるエアブリッジの製作
• Authors: Yuting Sun, Jiayu Ding, Xiaoyu Xia, Xiaohan Wang, Jianwen Xu, Shuqing Song, Dong Lan, Jie Zhao, Yang Yu,
• Abstract要約: 超伝導量子回路では、エアブリッジはコプラナー導波路回路の寄生スロットラインモードを除去するために重要である。 本稿では, 単層フォトレジストを用いた超電導エアブリッジの製作技術について述べる。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 22.167408688000368
• License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
• Abstract: In superconducting quantum circuits, airbridges are critical for eliminating parasitic slotline modes of coplanar waveguide circuits and reducing crosstalks between direct current magnetic flux biases. Here, we present a technique for fabricating superconducting airbridges. With this technique, a single layer of photoresist is employed, and the gradient exposure process is used to define the profile of airbridges. In order to properly obtain the bridge profile, we design exposure dosage based on residual photoresist thickness and laser power calibrations. Compared with other airbridge fabrication techniques, the gradient exposure fabrication technique provides the ability to produce lossless superconducting airbridges with flexible size and, thus, is more suitable for large-scale superconducting quantum circuits. Furthermore, this method reduces the complexity of the fabrication process and provides a high fabrication yield.
• Abstract（参考訳）: 超伝導量子回路では、エアブリッジはコプラナー導波路回路の寄生スロットラインモードを排除し、直流磁束バイアス間のクロストークを低減するために重要である。 本稿では,超電導エアブリッジの製作技術について述べる。 この技術では、フォトレジストの1層が採用され、エアブリッジの形状を定義するために勾配露光プロセスが使用される。 ブリッジプロファイルを適切に取得するために,残光抵抗厚とレーザーパワーキャリブレーションに基づく露光量の設計を行った。 他のエアブリッジ製造技術と比較して、勾配露光加工技術は、損失のない超電導エアブリッジを柔軟に製造できるので、より大規模な超伝導量子回路に適している。 さらに、この方法は、製造工程の複雑さを低減し、高い製造歩留まりを提供する。

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