論文の概要: Aluminum air bridges for superconducting quantum devices realized using a single step electron-beam lithography process

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2206.09489v2
• Date: Wed, 31 Aug 2022 16:26:29 GMT
• ステータス: 処理完了
• システム内更新日: 2023-02-08 21:17:24.454425
• Title: Aluminum air bridges for superconducting quantum devices realized using a single step electron-beam lithography process
• Title（参考訳）: 単一ステップ電子ビームリソグラフィ法により実現した超伝導量子デバイス用アルミニウム空気ブリッジ
• Authors: Noah Janzen, Michal Kononenko, Shaun Ren, Adrian Lupascu
• Abstract要約: 超伝導量子デバイスでは、空気ブリッジは回路の複雑さと密度を高めることができる。 単段電子ビーム勾配露光に基づく簡単なプロセスでアルミエアブリッジを実装した。 橋の大きさは20mu m$から100mu m$までで、収量は最大で36mu m$まで99%以上である。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
• License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
• Abstract: In superconducting quantum devices, air bridges enable increased circuit complexity and density as well as mitigate the risk of microwave loss arising from mode mixing. We implement aluminum air bridges using a simple process based on single-step electron-beam gradient exposure. The resulting bridges have sizes ranging from $20~\mu m$ to $100~\mu m$, with a yield exceeding $99~\%$ for lengths up to $36~\mu m$. When used to connect ground planes in coplanar waveguide resonators, the induced loss contributed to the system is negligible, corresponding to a reduction of the quality factor exceeding $1.0\times10^8$ per bridge. The bridge process is compatible with Josephson junctions and allows for the simultaneous creation of low loss bandages between superconducting layers.
• Abstract（参考訳）: 超伝導量子デバイスでは、空気ブリッジは回路の複雑さと密度を増大させ、モード混合によるマイクロ波損失のリスクを軽減する。 単段電子ビーム勾配露光に基づく簡単なプロセスでアルミエアブリッジを実装した。 その結果得られる橋の大きさは20〜\mu m$から100〜\mu m$までで、収量は最大で336〜\mu m$まで99～\%$を超える。 共平面導波路共振器の地上面を接続する場合、システムに起因する誘導損失は無視可能であり、橋1本あたり1.0\times10^8$を超える品質係数の低減に対応する。 ブリッジプロセスはジョセフソン接合と互換性があり、超伝導層間の低損失帯を同時に生成することができる。

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