論文の概要: Moire-Engineered Ferroelectric Transistors for Nearly Trap-free, Low-Power and Non-Volatile 2D Electronics
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2512.08086v1
- Date: Mon, 08 Dec 2025 22:40:30 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2025-12-10 22:28:07.746632
- Title: Moire-Engineered Ferroelectric Transistors for Nearly Trap-free, Low-Power and Non-Volatile 2D Electronics
- Title(参考訳): 準トラップフリー・低出力・非揮発性2D電子用モアレ系強誘電体トランジスタ
- Authors: Arup Singha, Shaili Sett, Kenji Watanabe, Takashi Taniguchi, Arindam Ghosh, Rahul Debnath,
- Abstract要約: We demonstrate a moire-engineered ferroelectric field-effect transistor (FeFET) using twisted WSe2 bilayers。
この装置は安定した0.10Vの非揮発性メモリウィンドウと高いモビリティを示す。
その結果,超クリーン,低消費電力,非揮発性2Dエレクトロニクスへの実用的かつスケーラブルな経路として,モアレ工学的強誘電性を確立した。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 2.200824545283625
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Long-range moire patterns in twisted WSe2 enable a built-in, moire-length-scale ferroelectric polarization that can be directly harnessed in electronic devices. Such a built-in ferroic landscape offers a compelling means to enable ultralow-voltage and non-volatile electronic functionality in two-dimensional materials; however, achieving stable polarization control without charge trapping has remained a persistent challenge. Here, we demonstrate a moire-engineered ferroelectric field-effect transistor (FeFET) utilizing twisted WSe2 bilayers that leverages atomically clean van der Waals interfaces to achieve efficient polarization-channel coupling and trap-suppressed, ultralow-voltage operation (subthreshold swing of 64 mV per decade). The device exhibits a stable non-volatile memory window of 0.10 V and high mobility, exceeding the performance of previously reported two-dimensional FeFET and matching that of advanced silicon-based devices. In addition, capacitance-voltage spectroscopy, corroborated by self-consistent Landau-Ginzburg-Devonshire modeling, indicates ultrafast ferroelectric switching (~0.5 microseconds). These results establish moire-engineered ferroelectricity as a practical and scalable route toward ultraclean, low-power, and non-volatile 2D electronics, bridging atomistic lattice engineering with functional device architectures for next-generation memory and logic technologies.
- Abstract(参考訳): WSe2の長距離モアレパターンは、電子デバイスに直接利用可能な内蔵のモアレ長スケールの強誘電分極を可能にする。
このような強誘電体ランドスケープは、超低電圧・非揮発性電子機能を二次元材料で実現するための魅力的な手段を提供するが、電荷トラップなしで安定した偏光制御を実現することは、まだ永続的な課題である。
ここでは、原子間クリーンなファンデルワールス界面を利用して、効率的な分極チャネル結合を実現し、トラップ抑制された超低電圧動作(10年あたり64mVのサブスレッショルドスイング)を実現する、ツイストしたWSe2二層を用いたモアレ駆動強誘電体電界効果トランジスタ(FeFET)を実証する。
この装置は、安定した0.10Vの非揮発性メモリウインドウと高いモビリティを示し、これまで報告された2次元FeFETの性能と高度なシリコンベースのデバイスの性能を上回る。
さらに、自己整合ランダウ・ギンズバーグ・デヴォンシャーモデルで近似されたキャパシタンス電圧分光法は、超高速な強誘電体スイッチング(~0.5マイクロ秒)を示す。
これらの結果は、超クリーン、低消費電力、非揮発性2D電子への実用的でスケーラブルな経路として、モアレエンジニアリングによる強誘電性を確立し、次世代メモリおよびロジック技術のための機能デバイスアーキテクチャを備えた原子格子工学をブリッジする。
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