論文の概要: SePArate: Segmenting Patterns from Defects in Wafer Manufacturing Using Weak Supervision
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2608.30410v1
- Date: Mon, 31 Aug 2026 08:07:57 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2026-09-01 18:31:31.301206
- Title: SePArate: Segmenting Patterns from Defects in Wafer Manufacturing Using Weak Supervision
- Title(参考訳): SePArate:Weak Supervisionを用いたウェハ製造における欠陥の分離パターン
- Abstract要約: 弱教師付きウエハ欠陥分割法であるSePArateを提案する。
SePArateは、画像レベルのアノテーションのみを活用することで、パターンのピクセルレベルの分離を可能にする。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 13.558258847565348
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: In semiconductor manufacturing, defect analysis is essential, but manual inspection cannot scale. However, existing automated inspection methods remain insufficient for root-cause analysis and process optimization. To this end, we present SePArate, a weakly supervised wafer defect segmentation method. SePArate enables pixel-level separation of patterns by leveraging only image-level annotations. It consists of a three-phase training: encoder pretraining, knowledge transfer to learn spatial cues, and training on synthetic mixed-defect data for accurate segmentation. Experiments demonstrate that SePArate outperforms the baselines.
- Abstract(参考訳): 半導体製造では欠陥解析が不可欠であるが、手動検査ではスケールできない。
しかし,既存の自動検査手法は根本原因分析やプロセス最適化には不十分である。
この目的のために,弱い教師付きウエハ欠陥分割法であるSePArateを提案する。
SePArateは、画像レベルのアノテーションのみを活用することで、パターンのピクセルレベルの分離を可能にする。
エンコーダ事前訓練、空間的手がかりを学ぶための知識伝達、正確なセグメンテーションのための合成混合欠陥データのトレーニングという3段階のトレーニングで構成されている。
実験では、SePArateがベースラインを上回っている。
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