論文の概要: Hot ion implantation to create dense NV centre ensembles in diamond
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2311.05328v1
- Date: Thu, 9 Nov 2023 12:47:41 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-11-10 15:14:37.060122
- Title: Hot ion implantation to create dense NV centre ensembles in diamond
- Title(参考訳): ダイヤモンド中の高密度NV中心アンサンブル形成のためのホットイオン注入
- Authors: Midrel Wilfried Ngandeu Ngambou, Pauline Perrin, Ionut Balasa, Alexey
Tiranov, Ovidiu Brinza, Fabien Benedic, Justine Renaud, Morgan Reveillard,
Jeremie Silvent, Philippe Goldner, Jocelyn Achard, Alexandre Tallaire
- Abstract要約: 本研究では,30~40keV帯でのN2イオン注入を高温で実現した。
800Cでは、NVアンサンブル発光は室温注入膜よりも3倍から4倍高い。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 31.114245664719455
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: Creating dense and shallow nitrogen vacancy (NV) ensembles with good spin
properties, is a prerequisite for developing diamond-based quantum sensors
exhibiting better performance. Ion implantation is a key enabling tool for
precisely controlling spatial localisation and density of NV colour centres in
diamond. However, it suffers from a low creation yield, while higher ion
fluences significantly damage the crystal lattice. In this work, we realize N2
ion implantation in the 30 to 40 keV range at high temperatures. At 800 C, NV
ensemble photoluminescence emission is three to four times higher than room
temperature implanted films, while narrow electron spin resonance linewidths of
1.5 MHz, comparable to well established implantation techniques are obtained.
In addition, we found that ion fluences above 2E14 ions per cm2 can be used
without graphitization of the diamond film, in contrast to room temperature
implantation. This study opens promising perspectives in optimizing diamond
films with implanted NV ensembles that could be integrated into quantum sensing
devices.
- Abstract(参考訳): 高いスピン特性を持つ密度と浅い窒素空孔(NV)アンサンブルを作ることは、優れた性能を示すダイヤモンドベースの量子センサーを開発するための前提条件である。
イオン注入はダイヤモンド中のnv色中心の空間局在と密度を正確に制御するための重要な道具である。
しかし、生成率が低いのに対して、高いイオンフルエンスで結晶格子が著しく損傷する。
本研究では,30~40keV帯でのN2イオン注入を高温で実現した。
800cでは、nvアンサンブル発光は室温注入膜より3倍から4倍高いが、狭い電子スピン共鳴線幅は1.5mhzであり、十分に確立された注入技術に匹敵する。
また, 室温注入とは対照的に, 2e14イオン/cm2以上のイオンフルエンスはダイヤモンド膜の黒鉛化を伴わずに使用できることがわかった。
本研究は、量子センシングデバイスに組み込むことのできるnvアンサンブルを組み込んだダイヤモンド薄膜の最適化に有望な展望を開く。
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