論文の概要: Quantum Imaging for Semiconductor Industry

• arxiv url: http://arxiv.org/abs/2006.12734v1
• Date: Tue, 23 Jun 2020 04:06:13 GMT
• ステータス: 処理完了
• システム内更新日: 2023-05-13 01:11:32.793230
• Title: Quantum Imaging for Semiconductor Industry
• Title（参考訳）: 半導体産業のための量子イメージング
• Authors: Anna V. Paterova, Hongzhi Yang, Zi S. D. Toa, Leonid A. Krivitsky
• Abstract要約: 赤外線(IR)イメージングは、作製した試料の品質管理のための重要なツールの1つである。 赤外線光源や検出器の限られた選択のため、特定の赤外線波長に到達する際の課題が生じる可能性がある。 本研究では, 量子イメージング技術に基づく間接赤外顕微鏡を行う。
• 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.5735035463793008
• License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
• Abstract: Infrared (IR) imaging is one of the significant tools for the quality control measurements of fabricated samples. Standard IR imaging techniques use direct measurements, where light sources and detectors operate at IR range. Due to the limited choices of IR light sources or detectors, challenges in reaching specific IR wavelengths may arise. In our work, we perform indirect IR microscopy based on the quantum imaging technique. This method allows us to probe the sample with IR light, while the detection is shifted into the visible or near-IR range. Thus, we demonstrate IR quantum imaging of the silicon chips at different magnifications, wherein a sample is probed at 1550 nm wavelength, but the detection is performed at 810 nm. We also analyze the possible measurement conditions of the technique and estimate the time needed to perform quality control checks of samples.
• Abstract（参考訳）: 赤外線イメージングは、作製した試料の品質管理のための重要なツールの1つである。 標準IRイメージング技術は、光源と検出器がIR範囲で動作する直接測定を使用する。 ir光源や検出器の選択が限られているため、特定の赤外線波長に達することが困難になる可能性がある。 本研究では, 量子イメージング技術を用いて間接赤外線顕微鏡を行う。 この方法で試料を赤外光で探すことができ、検出は可視域や近赤外域に移動する。 このようにして、試料を1550nmの波長でプローブする、異なる倍率で半導体チップのIR量子イメージングを実演するが、検出は810nmで行う。 また,本手法の可能な測定条件を分析し,試料の品質管理を行うために必要な時間を推定する。

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