論文の概要: Microscopic metallic air-bridge arrays for connecting quantum devices
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2102.06123v2
- Date: Wed, 21 Apr 2021 23:17:34 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-04-11 12:02:15.525710
- Title: Microscopic metallic air-bridge arrays for connecting quantum devices
- Title（参考訳）: 量子デバイス接続のための微視的金属エアブリッジアレイ
- Authors: Y. Jin, M. Moreno, P. M. T. Vianez, W. K. Tan, J. P. Griffiths, I.
Farrer, D. A. Ritchie, C. J. B. Ford
- Abstract要約: 超大型のマイクロエアブリッジ用単露光加工技術を提案する。
この技術は、強い金属-金属または金属-基板接続を持つエアブリッジを形成することができる。
- 参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
- License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
- Abstract: We present a single-exposure fabrication technique for a very large array of
microscopic air-bridges using a tri-layer resist process with electron-beam
lithography. The technique is capable of forming air-bridges with strong
metal-metal or metal-substrate connections. This was demonstrated by its
application in an electron tunnelling device consisting of 400 identical
surface gates for defining quantum wires, where the air-bridges are used as
suspended connections for the surface gates. This technique enables us to
create a large array of uniform one-dimensional channels that are open at both
ends. In this article, we outline the details of the fabrication process,
together with a study and the solution of the challenges present in the
development of the technique, which includes the use of water-IPA (isopropyl
alcohol) developer, calibration of resist thickness and numerical simulation of
the development.
- Abstract（参考訳）: 電子ビームリソグラフィーを用いた三層レジスト法による超大型のマイクロエアブリッジの単一露光加工法を提案する。
この技術は、強い金属-金属または金属-基板接続を持つエアブリッジを形成することができる。
これは、400個の同一の表面ゲートからなる電子トンネル装置で量子ワイヤを定義することで実証され、そこではエアブリッジが表面ゲートの懸架接続として使用される。
この手法により、両端に開いている一様一次元チャネルの大規模な配列を作成できる。
本稿では, 水-ipa (イソプロピルアルコール) 現像剤の使用, レジスト厚みのキャリブレーション, 開発シミュレーションなど, 技術開発における課題の考察と解決とともに, 製造工程の詳細について概説する。
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