Fugu-MT 論文翻訳(概要): Photo-excitation measurement of Tan's contact for a strongly interacting Fermi gas

論文の概要: Photo-excitation measurement of Tan's contact for a strongly interacting Fermi gas

arxiv url: http://arxiv.org/abs/2202.04995v1
Date: Thu, 10 Feb 2022 12:47:10 GMT
ステータス: 処理完了
システム内更新日: 2023-02-26 04:58:57.884279
Title: Photo-excitation measurement of Tan's contact for a strongly interacting Fermi gas
Title（参考訳）: 強相互作用フェルミ気体におけるタン接触の光励起測定
Authors: Jia Wang, Xia-Ji Liu, Hui Hu
Abstract要約: 理論上、タンの普遍接点と強い相互作用を持つフェルミ気体の光励起率との正確な関係を導出する。我々の関係は、将来の実験でTanの接触係数を有限温度で正確に測定するために適用することができる。
参考スコア（独自算出の注目度）: 3.2972646486118076
License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Abstract: We derive theoretically an exact relation between Tan's universal contact and the photo-excitation rate of a strongly interacting Fermi gas, in the case of optically transferring fermionic pairs to a more tightly bound molecular state. Our deviation generalizes the relation between Tan's contact and the closed-channel molecular fraction found earlier by Werner, Tarruell and Castin in Eur. Phys. J. B \textbf{68}, 401 (2009). We use the relation to understand the recent low-temperature photo-excitation measurement in a strongly interacting $^{6}$Li Fermi gas {[}Liu \textit{et al.}, arXiv:1903.12321{]} and show that there is a reasonable agreement between theory and experiment close to the unitary limit. We propose that our relation can be applied to accurately measure Tan's contact coefficient at finite temperature in future experiments.
Abstract（参考訳）: 我々は理論上,タンの普遍接触と強い相互作用を持つフェルミ気体の光励起率との正確な関係を導出する。我々の偏差は、Werner, Tarruell, CastinがEurで発見したタンの接触と閉チャネル分子分画の関係を一般化する。 Phys J. B \textbf{68}, 401 (2009)。強い相互作用を持つ$^{6}$Li Fermi gas {[}Liu \textit{et al。 arXiv:1903.12321{]} であり、ユニタリ極限に近い理論と実験の間に妥当な一致があることを示す。我々は,今後の実験において,Tanの接触係数を有限温度で正確に測定するために,我々の関係を適用できることを提案する。

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