論文の概要: Superconducting nitridized-aluminum thin films
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2308.06240v1
- Date: Fri, 11 Aug 2023 17:19:09 GMT
- ステータス: 処理完了
- システム内更新日: 2023-08-14 13:13:48.752300
- Title: Superconducting nitridized-aluminum thin films
- Title(参考訳): 超伝導窒化アルミニウム薄膜
- Authors: Alba Torras-Coloma, Leyre Mart\'inez de Olcoz, Eva C\'espedes, Elia
Bertoldo, David L\'opez-N\'u\~nez, Sagar Paul, Wolfgang Wernsdorfer, Gemma
Rius, Pol Forn-D\'iaz
- Abstract要約: 窒化アルミニウム薄膜における超伝導の直接観察について報告する。
量子技術応用のための超伝導量子回路に使用される有望な材料として窒化アルミニウムが用いられる。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 0.0
- License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
- Abstract: We report the direct observation of superconductivity in nitridized-aluminum
thin films. The films are produced by sputtering deposition of aluminum in a
controlled mixture of nitrogen diluted in argon. The concentration of applied
nitrogen directly determines the properties of the superconducting thin films.
We observe samples displaying critical temperatures up to 3.38$\pm$0.01 K and
resilience to in-plane magnetic fields well above 1 T, with good
reproducibility of the results. To our knowledge, this work represents the
first unambiguous demonstration of tunable superconductivity in aluminum-based
nitridized thin films. Our results put forward nitridized aluminum as a
promising material to be employed in superconducting quantum circuits for
quantum technology applications.
- Abstract(参考訳): 窒化アルミニウム薄膜における超伝導の直接観察について報告する。
アルゴンで希釈された窒素の制御混合物中でアルミニウムの蒸着をスパッタリングして製造する。
応用窒素の濃度は超伝導薄膜の特性を直接決定する。
3.38$\pm$0.01 k までの臨界温度を示す試料と1 t を超える面内磁場に対する弾性を観測し、良好な再現性を示した。
我々の知る限りでは、この研究はアルミニウム系窒化薄膜における波長可変超伝導の最初の不明瞭な実証である。
その結果, 窒化アルミニウムは超伝導量子回路の量子技術への応用に期待できる材料となった。
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