Fugu-MT 論文翻訳(概要): Superconducting nitridized-aluminum thin films

論文の概要: Superconducting nitridized-aluminum thin films

arxiv url: http://arxiv.org/abs/2308.06240v2
Date: Mon, 8 Apr 2024 14:42:36 GMT
ステータス: 処理完了
システム内更新日: 2024-04-10 04:57:43.099255
Title: Superconducting nitridized-aluminum thin films
Title（参考訳）: 超伝導窒化アルミニウム薄膜
Authors: Alba Torras-Coloma, Leyre Martínez de Olcoz, Eva Céspedes, Elia Bertoldo, David López-Núñez, Sagar Paul, Wolfgang Wernsdorfer, Gemma Rius, Pol Forn-Díaz,
Abstract要約: 窒化アルミニウム薄膜における超伝導の直接観察について報告する。量子技術応用のための超伝導量子回路に使用される有望な材料として窒化アルミニウムが用いられる。
参考スコア（独自算出の注目度）: 0.0
License: http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
Abstract: We report the direct observation of superconductivity in nitridized-aluminum thin films. The films are produced by sputtering deposition of aluminum in a controlled mixture of nitrogen diluted in argon. The concentration of applied nitrogen directly determines the properties of the superconducting thin films. We observe samples displaying critical temperatures up to 3.38$\pm$0.01K and resilience to in-plane magnetic fields well above 1T, with good reproducibility of the results. This work represents an unambiguous demonstration of tunable superconductivity in aluminum-based nitridized thin films. Our results put forward nitridized aluminum as a promising material to be employed in superconducting quantum circuits for quantum technology applications.
Abstract（参考訳）: 窒化アルミニウム薄膜における超伝導の直接観察について報告する。アルゴンで希釈された窒素の制御混合物中でアルミニウムの蒸着をスパッタリングして製造する。応用窒素濃度は超伝導薄膜の特性を直接決定する。我々は,3.38$\pm$0.01Kまでの臨界温度と,1Tよりはるかに高い面内磁場に対するレジリエンスを示す試料を観察した。この研究は、アルミニウム基窒化膜における可変超伝導の明白な実証である。その結果, 窒化アルミニウムを超伝導量子回路に応用し, 量子技術への応用を期待できる材料として提案した。

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