論文の概要: Efficient creation of shallow NV$^-$ ensembles by high-angle ion implantation
- arxiv url: http://arxiv.org/abs/2609.22937v1
- Date: Sat, 19 Sep 2026 10:26:21 GMT
- ステータス: 翻訳完了
- システム内更新日: 2026-09-22 20:29:00.589887
- Title: Efficient creation of shallow NV$^-$ ensembles by high-angle ion implantation
- Title(参考訳): 高角イオン注入による浅いNV$^-$アンサンブルの効率的な生成
- Abstract要約: 負電荷の窒素空孔中心は、外部スピンをナノスケールで検出するための重要な量子欠陥である。
高角イオン注入により, 浅いNV$-$中心の創出効率が向上することが実証された。
本研究は, 浅い空孔関連量子欠陥の工学的手法として, イオン注入の幾何学的制御を確立した。
- 参考スコア(独自算出の注目度): 1.293050392312921
- License: http://arxiv.org/licenses/nonexclusive-distrib/1.0/
- Abstract: Negatively charged nitrogen-vacancy (NV$^-$) centers located a few nanometers below the diamond surface are key quantum defects for nanoscale sensing of external spins. However, the creation of shallow NV$^-$ centers with high yield remains a materials challenge. Here, we demonstrate that high-angle ion implantation enhances the creation efficiency of shallow NV$^-$ centers. By implanting $^{15}$N ions at angles exceeding 60$^\circ$, we achieve high NV$^-$ yields approaching 10% with effective NV$^-$ depths below 10 nm. These yields are significantly higher than those typically reported for shallow NV$^-$ creation. The enhanced NV$^-$ yield is consistent with an increased vacancy-to-nitrogen ratio in the near-surface region, which is expected to promote NV formation during annealing. The created NV$^-$ ensembles show coherence properties comparable to those of single shallow NV$^-$ centers at similar depths, and allow detection of nuclear spins in van der Waals materials attached to the diamond surface. Our results establish geometric control of ion implantation as a simple and broadly applicable approach to engineer shallow vacancy-related quantum defects.
- Abstract(参考訳): ダイヤモンド表面下数ナノメートルに位置する負電荷窒素空孔(NV$^-$)中心は、外部スピンをナノスケールで検出するための重要な量子欠陥である。
しかし、高収率の浅いNV$^-$センターを作ることは、依然として材料的課題である。
ここでは, 高角イオン注入により, 浅いNV$^-$中心の創出効率が向上することを示した。
60$^\circ$を超える角度で$^{15}$Nイオンを注入することにより、10nm以下の有効NV$^-$深さで10%近づく高NV$^-$収率が得られる。
これらの収量は、浅いNV$^-$生成のために報告されるものよりも著しく高い。
NV$^-$収率の増大は, 表面近傍での空孔-窒素比の上昇と一致し, 焼鈍時のNV生成を促進することが期待された。
生成されたNV$^-$アンサンブルは、同じ深さで単一の浅いNV$^-$中心のものと同等のコヒーレンス特性を示し、ダイヤモンド表面に付着したファンデルワールス物質の核スピンの検出を可能にする。
本研究は, 浅い空孔関連量子欠陥の工学的手法として, イオン注入の幾何学的制御を確立した。
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